ഓക്സീകരണംകൃത്രിമ വസ്തുക്കൾചൂടാക്കിയ ലോഹത്തിന്റെ രാസഘടനയും ചൂടാക്കൽ വളയത്തിന്റെ ആന്തരികവും ബാഹ്യവുമായ ഘടകങ്ങളും (ചൂള വാതക ഘടന, ചൂടാക്കൽ താപനില മുതലായവ) പ്രധാനമായും ബാധിക്കുന്നു.
1) ലോഹ വസ്തുക്കളുടെ രാസഘടന
ഓക്സൈഡ് സ്കെയിലിന്റെ അളവ് രാസഘടനയുമായി അടുത്ത ബന്ധപ്പെട്ടിരിക്കുന്നു. ഉരുക്കിന്റെ കാർബൺ അളവ് കൂടുന്തോറും ഓക്സൈഡ് സ്കെയിൽ കുറയുന്നു, പ്രത്യേകിച്ച് കാർബൺ അളവ് 0.3% കവിയുമ്പോൾ. കാരണം, കാർബൺ ഓക്സിഡൈസ് ചെയ്തതിനുശേഷം, ബ്ലാങ്കിന്റെ ഉപരിതലത്തിൽ മോണോക്സൈഡ് (CO) വാതകത്തിന്റെ ഒരു പാളി രൂപം കൊള്ളുന്നു, ഇത് തുടർച്ചയായ ഓക്സീകരണം തടയുന്നതിൽ ഒരു പങ്കു വഹിക്കുന്നു. Cr, Ni, Al, Mo, Si തുടങ്ങിയ മൂലകങ്ങളിലെ അലോയ് സ്റ്റീലിൽ, സ്കെയിലിന്റെ രൂപീകരണം കുറയുമ്പോൾ കൂടുതൽ ചൂടാക്കൽ സംഭവിക്കുന്നു, കാരണം ഈ മൂലകങ്ങൾ ഓക്സിഡൈസ് ചെയ്യപ്പെട്ടതിനാൽ, ഉരുക്കിന്റെ ഇടതൂർന്ന ഓക്സൈഡ് ഫിലിമിന്റെ ഉപരിതലത്തിൽ ഒരു പാളി രൂപപ്പെടാൻ കഴിയും, കൂടാതെ അതിനും സ്റ്റീലിനും താപ വികാസ ഗുണകത്തോട് അടുത്ത്, ഉപരിതലത്തിൽ ദൃഢമായി ഘടിപ്പിച്ചിരിക്കുന്നതിനാൽ, പൊട്ടിപ്പോകാനും വീഴാനും എളുപ്പമല്ല, അതിനാൽ കൂടുതൽ ഓക്സീകരണം തടയാൻ, സംരക്ഷണം നൽകുന്നു. ചൂട്-പ്രതിരോധശേഷിയുള്ള നോൺ-പീലിംഗ് സ്റ്റീൽ മുകളിൽ പറഞ്ഞ മൂലകങ്ങളിൽ കൂടുതൽ ഉള്ള അലോയ് സ്റ്റീലാണ്, കൂടാതെ ഉരുക്കിൽ Ni, Cr എന്നിവയുടെ ഉള്ളടക്കം 13% ആയിരിക്കുമ്പോൾ? 20% ൽ, മിക്കവാറും ഓക്സീകരണം സംഭവിക്കുന്നില്ല.
2) ഫർണസ് ഗ്യാസ് ഘടന
ഫർണസ് ഗ്യാസ് ഘടന രൂപീകരണത്തിൽ വലിയ സ്വാധീനം ചെലുത്തുന്നുകെട്ടിച്ചമയ്ക്കൽസ്കെയിൽ, അതേസ്റ്റീൽ ഫോർജിംഗ്സ്വ്യത്യസ്ത ചൂടാക്കൽ അന്തരീക്ഷങ്ങളിൽ, സ്കെയിലിന്റെ രൂപീകരണം ഒരുപോലെയല്ല, ഓക്സിഡൈസിംഗ് ഫർണസ് വാതകത്തിൽ, സ്കെയിലിന്റെ രൂപീകരണം ഏറ്റവും കൂടുതലാണ്, ഇളം ചാരനിറം, എളുപ്പത്തിൽ നീക്കംചെയ്യാൻ കഴിയും; ന്യൂട്രൽ ഫർണസ് വാതകത്തിൽ (പ്രധാനമായും N2 അടങ്ങിയിരിക്കുന്നു), റിഡ്യൂസിംഗ് ഫർണസ് വാതകത്തിൽ (CO, H2 മുതലായവ അടങ്ങിയിരിക്കുന്നു), രൂപം കൊള്ളുന്ന ഓക്സൈഡ് സ്കെയിൽ കറുപ്പ് കുറവായതിനാൽ നീക്കംചെയ്യാൻ എളുപ്പമല്ല. ഓക്സൈഡ് സ്കെയിലിന്റെ രൂപീകരണവും നീക്കം ചെയ്യലും കുറയ്ക്കുന്നതിന്, ചൂടാക്കലിന്റെ ഓരോ ഘട്ടത്തിലും ഫർണസ് വാതക ഘടനയുടെ നിയന്ത്രണത്തിൽ ശ്രദ്ധ ചെലുത്തണം. സാധാരണയായി പറഞ്ഞാൽ, ഫോർജിംഗുകൾ 1000 ഡിഗ്രി സെൽഷ്യസിൽ താഴെയാണ്, ചൂടാക്കുമ്പോൾ ഓക്സിഡൈസ്ഡ് ഫർണസ് വാതകം ഉപയോഗിക്കുന്നു, കാരണം ഈ സമയത്ത് താപനില ഉയർന്നതല്ല, ഓക്സിഡേഷൻ പ്രക്രിയ വളരെ കഠിനമല്ല, കൂടാതെ രൂപം കൊള്ളുന്ന ഓക്സൈഡ് സ്കെയിൽ നീക്കംചെയ്യാൻ എളുപ്പമാണ്; താപനില 1000 ഡിഗ്രി സെൽഷ്യസിൽ കൂടുതലാകുമ്പോൾ, പ്രത്യേകിച്ച് ഉയർന്ന താപനില നിലനിർത്തൽ ഘട്ടത്തിൽ, ഓക്സൈഡ് സ്കെയിലിന്റെ ഉത്പാദനം കുറയ്ക്കാൻ റിഡ്യൂസിംഗ് ഫർണസ് ഗ്യാസ് അല്ലെങ്കിൽ ന്യൂട്രൽ ഫർണസ് ഗ്യാസ് ഉപയോഗിക്കണം.
ജ്വാല ചൂടാക്കൽ ചൂളയിലെ ചൂള വാതകത്തിന്റെ സ്വഭാവം ജ്വലന സമയത്ത് ഇന്ധനത്തിലേക്ക് വിതരണം ചെയ്യുന്ന വായുവിന്റെ അളവിനെ ആശ്രയിച്ചിരിക്കുന്നു. ചൂളയിലെ വായുവിന്റെ അധിക ഗുണകം വളരെ വലുതാണെങ്കിൽ, വായുവിന്റെ വിതരണം വളരെ കൂടുതലാണെങ്കിൽ, ചൂള വാതകം ഓക്സിഡൈസ് ചെയ്യപ്പെടുന്നു, ലോഹ ഓക്സൈഡ് സ്കെയിൽ കൂടുതലാണെങ്കിൽ, ചൂളയിലെ വായുവിന്റെ അധിക ഗുണകം 0.4 ആണെങ്കിൽ? 0.5 ൽ, ചൂള വാതകം കുറയ്ക്കാവുന്നതാണ്, ഓക്സൈഡ് സ്കെയിൽ രൂപപ്പെടുന്നത് ഒഴിവാക്കാനും ഓക്സിഡേഷൻ ചൂടാക്കൽ നേടാതിരിക്കാനും ഒരു സംരക്ഷണ അന്തരീക്ഷം സൃഷ്ടിക്കുന്നു.

3) ചൂടാക്കൽ താപനില
ഫോർജിംഗ് സ്കെയിൽ രൂപീകരണത്തിന്റെ പ്രധാന ഘടകവും ചൂടാക്കൽ താപനിലയാണ്, ചൂടാക്കൽ താപനില കൂടുന്തോറും ഓക്സീകരണം കൂടുതൽ തീവ്രമാകും. 570 ℃-ൽ? 600 ℃-ന് മുമ്പ്, ഫോർജിംഗ് ഓക്സിഡേഷൻ മന്ദഗതിയിലാണ്, 700 ℃ ഓക്സിഡേഷൻ വേഗത ത്വരിതപ്പെടുത്തി 900 ℃-ലേക്ക്? 950 ℃-ൽ, ഓക്സിഡേഷൻ വളരെ പ്രധാനമാണ്. ഓക്സിഡേഷൻ നിരക്ക് 900 ° C-ൽ 1 ഉം 1000 ° C-ൽ 2 ഉം 1100 ° C-ൽ 3.5 ഉം 1300 ° C-ൽ 7 ഉം ആണെന്ന് കരുതുകയാണെങ്കിൽ, ആറ് മടങ്ങ് വർദ്ധനവ്.
4) ചൂടാക്കൽ സമയം
ചൂളയിലെ ഓക്സിഡൈസിംഗ് വാതകത്തിലെ ഫോർജിംഗുകളുടെ ചൂടാക്കൽ സമയം കൂടുന്തോറും ഓക്സിഡേഷൻ വ്യാപനം വർദ്ധിക്കുകയും ഓക്സൈഡ് സ്കെയിൽ കൂടുതൽ രൂപപ്പെടുകയും ചെയ്യുന്നു, പ്രത്യേകിച്ച് ഉയർന്ന താപനില ചൂടാക്കൽ ഘട്ടത്തിൽ, അതിനാൽ ചൂടാക്കൽ സമയം പരമാവധി കുറയ്ക്കണം, പ്രത്യേകിച്ച് ഉയർന്ന താപനിലയിൽ ചൂടാക്കൽ സമയവും ഹോൾഡിംഗ് സമയവും കഴിയുന്നത്ര കുറയ്ക്കണം.
കൂടാതെ, ഉയർന്ന താപനിലയിലുള്ള ഫോർജിംഗ് ബില്ലറ്റ് ചൂളയിൽ മാത്രമല്ല, ഫോർജിംഗ് പ്രക്രിയയിലും ഓക്സിഡൈസ് ചെയ്യപ്പെടുന്നു. ബില്ലറ്റിലെ ഓക്സൈഡ് സ്കെയിൽ വൃത്തിയാക്കിയാലും, ബില്ലറ്റ് താപനില ഇപ്പോഴും ഉയർന്നതാണെങ്കിൽ, അത് രണ്ടുതവണ ഓക്സിഡൈസ് ചെയ്യപ്പെടും, പക്ഷേ ബില്ലറ്റ് താപനില കുറയുന്നതിനനുസരിച്ച് ഓക്സിഡേഷൻ നിരക്ക് ക്രമേണ ദുർബലമാകുന്നു.